• 简介

  • 真空加热台可工作在超高真空环境下,主要应用在PVD,CVD,MOCVD及等离子体沉积系统上。

  • 特性

  • 加热区域的温度为900℃

  • 采用K型热电偶传感器

  • 加热速度与冷却速度快

  • 经济实惠

  • 水冷系统,电源及热电偶在加热台的下方或侧面

  • 可用于高真空,超高真空或O2环境下温度控制

  •    标准尺寸: Ø2”至 Ø4’’


900℃真空加热台(卤素灯)

本网站由阿里云提供云计算及安全服务