• 简介

  • 真空加热台可工作在超高真空环境下,主要应用在PVD,CVD,MOCVD及等离子体沉积系统上。

  • 特性

  • 加热区域的温度为800℃

  • 采用K型热电偶传感器

  • 加热速度:400℃/每分钟

  • 可按任意方向安装到加热台上

  • 水冷系统,电源及热电偶在加热台的下方或侧面

  • 可用于高真空,超高真空或O2或者空气环境下温度控制

  • 标准尺寸: Ø1”至 Ø8’’


800℃真空加热台(NiCr灯丝)

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