• 简介

  • 真空加热台可工作在超高真空环境下,主要应用在PVD,CVD,MOCVD及等离子体沉积系统上。

  • 特性

  • 加热区域的温度为1700℃

  • 加热速度快,2分钟内可升至1700℃

  • 可用于高真空,超高真空温度控制

  • 不适用于在400℃以上氧气环境下使用

  • 标准尺寸: Ø1”,Ø1.5” 与 Ø2’’。

  • 含水冷装置,减少腔内与系统热聚集 

  • 采用热电偶测温

  • 水冷系统,电源及热电偶在加热台的下方或侧面

  • 可单独出售加热模块,带电源接口,水冷接口,T/C接口。


1700℃真空加热台(CCC)

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